減少焊點(diǎn)中的空洞——共晶焊接技術(shù)
2016-08-09 摘自誠(chéng)聯(lián)愷達(dá) 北京誠(chéng)聯(lián)愷達(dá)科技有限公司
共晶焊技術(shù)在電子封裝行業(yè)得到廣泛應(yīng)用,如芯片與基板的粘接、基板與管殼的粘接、管殼封帽等等。與傳統(tǒng)的環(huán)氧導(dǎo)電膠粘接相比,共晶焊接具有熱導(dǎo)率高、電阻小、傳熱快、
可靠性強(qiáng)、粘接后剪切力大的優(yōu)點(diǎn),適用于高頻、大功率器件中芯片與基板、基板與管殼的互聯(lián)。對(duì)于有較高散熱要求的功率器件必須采用共晶焊接。共晶焊是利用了共晶合金的特性來(lái)完成焊接工藝的。
共晶合金有以下特性:
(1)比純組元熔點(diǎn)低,簡(jiǎn)化了熔化工藝;
(2)共晶合金比純金屬有更好的流動(dòng)性,在凝固中可防止阻礙液體流動(dòng)的枝晶形成,從而改
善了鑄造性能;
(3)恒溫轉(zhuǎn)變(無(wú)凝固溫度范圍)減少了鑄造缺陷,如偏聚和縮孔;
(4)共晶凝固可獲得多種形態(tài)的顯微組織,尤其是規(guī)則排列的層狀或桿狀共晶組織,可成為優(yōu)異性能的原位復(fù)合材料(in-situ composite)。 共晶是指在相對(duì)較低的溫度下共晶焊料發(fā)生共晶物熔合的現(xiàn)象,共晶合金直接從固態(tài)變到液態(tài),而不經(jīng)過(guò)塑性階段。其熔化溫度稱共晶溫度。
真空可控氣氛共晶爐"是國(guó)際上近幾年推出的新設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)器件的各種共晶工藝;共晶時(shí)無(wú)需使用助焊劑,并具有抽真空或充惰性氣體的功能,在真空下共晶可以有效減少共晶空;如輔以專用的夾具,則能實(shí)現(xiàn)多芯片一次共晶,我公司根據(jù)新的工藝要求,研制出幾款真空可控氣氛共晶爐,如圖1所示。KD-V43是西門(mén)子+PLC控制,在液晶顯示屏上設(shè)定工藝曲線及氣體流量等工藝參數(shù),由控制軟件自動(dòng)完成工藝過(guò)程。 而且還帶視覺(jué)監(jiān)控分析系統(tǒng):焊接過(guò)程對(duì)焊接缺陷分析,可通過(guò)對(duì)整個(gè)焊接過(guò)程的視頻錄像(將器件和錫膏的焊接變化視頻與溫度曲線和當(dāng)前焊接時(shí)間、當(dāng)前溫度、當(dāng)前焊接環(huán)境結(jié)合在一個(gè)畫(huà)面上),根據(jù)分析焊接過(guò)程,收集焊接缺陷;通過(guò)軟件自動(dòng)對(duì)焊接實(shí)際曲線和焊接環(huán)境的分析,再加入焊接缺陷結(jié)果及焊接的前期流程的選項(xiàng),軟件自動(dòng)給出建議性處理方案,便于貴方公司工藝人員及時(shí)可靠的進(jìn)行工藝整改,從而提高產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率。
使用真空可控氣氛共晶爐進(jìn)行芯片共晶焊需要注意以下幾個(gè)方面的問(wèn)題:
焊料的選用 焊料是共晶焊接非常關(guān)鍵的因素。有多種合金可以作為焊料,如AuGe、AuSn、AuSi、Snln、SnAg、SnBi等,各種焊料因其各自的特性適于不同的應(yīng)用場(chǎng)合。 如:含銀的焊料SnAg,易于與鍍層含銀的端面接合,含金、含銦的合金焊料易于與鍍層含金的端面接合。
根據(jù)被焊件的熱容量大小,一般共晶爐設(shè)定的焊接溫度要高于焊料合金的共晶溫度30~50℃。芯片能耐受的溫度與焊料的共晶溫度也是進(jìn)行共晶時(shí)應(yīng)當(dāng)關(guān)注的問(wèn)題。如果焊料的共晶溫度過(guò)高,就會(huì)影響芯片材料的物理化學(xué)性質(zhì),使芯片失效。因此焊料的選用要考慮鍍層的成份與被焊件的耐受溫度。此外,如焊料存放時(shí)間過(guò)長(zhǎng),會(huì)使其表面的氧化層過(guò)厚,因焊接過(guò)程中沒(méi)有人工干預(yù),氧化層是很難去除的,焊料熔化后留下的氧化膜會(huì)在焊后形成空洞。在焊接過(guò)程中向爐腔內(nèi)充入少量氫氣,可以起到還原部分氧化物的作用,但最好是使用新焊料,使氧化程度降到最低。
溫度控制工藝曲線參數(shù)的確立
共晶焊接方法豐要用于高頻、大功率電路或者必須達(dá)到宇航級(jí)要求的電路。焊接時(shí)的熱損耗,熱應(yīng)力,濕度,顆粒以及沖擊或振動(dòng)是影響焊接效果關(guān)鍵因素。熱損傷會(huì)影響薄膜器件的性能;濕度過(guò)高可能引起粘連,磨損,附著現(xiàn)象;無(wú)效的熱部件會(huì)影響熱的傳導(dǎo)。共晶時(shí)最常見(jiàn)的問(wèn)題是基座(Heater Block)的溫度低于共晶溫度.在這種情況下,焊料仍能熔化,但沒(méi)有足夠的溫度來(lái)擴(kuò)散芯片背面的鍍金層,而操作者容易誤認(rèn)為焊料熔化就是共晶了。另一方面,用過(guò)長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)加熱基座會(huì)導(dǎo)致電路金屬的損壞,可見(jiàn)共晶時(shí)溫度和時(shí)間的控制是十分重要的。由于以上原因,溫度曲線的設(shè)置是共晶好壞的重要因素。
由于共晶時(shí)需要的溫度較高,特別是用AuGe焊料共晶,對(duì)基板及薄膜電路的耐高溫特性提出了要求。要求電路能承受400℃的高溫,在該溫度下,電阻及導(dǎo)電性能不能有改變。此共晶的一個(gè)關(guān)鍵因素是溫度,它不是單純的到達(dá)某個(gè)定值溫度,而是要經(jīng)過(guò)一個(gè)溫度曲線變化的過(guò)程,在溫度變化中,還要具備處理任何隨機(jī)事件的能力,如抽真空、充氣、排氣等事件。這些都是共晶爐設(shè)備具備的功能。 多芯片共晶的溫度控制與單芯片共晶不同。多芯片共晶時(shí)會(huì)出現(xiàn)芯片材料不同,共晶焊料不同,因此共晶溫度不同的情況。這時(shí)需要采用階梯共晶的方法。一般先對(duì)溫度高的共晶焊料共晶,再共晶溫度低的。共晶爐控制系統(tǒng)可以設(shè)定多條溫度曲線,每條溫度曲線可以設(shè)定9段,通過(guò)鏈接的方式可擴(kuò)展到81段,在溫度曲線運(yùn)行過(guò)程中可增加充氣、抽真空、排氣等工藝步驟。
降低空洞率
共晶后,空洞率是一項(xiàng)重要的檢測(cè)指標(biāo),如何降低空洞率是共晶的關(guān)鍵技術(shù)??斩赐ǔJ怯珊噶媳砻娴难趸ぁ⒎蹓m微粒、熔化時(shí)未排出的氣泡形成。由氧化物所形成的膜會(huì)阻礙金屬化表面的結(jié)合部相互滲透,留下的縫隙,冷卻凝結(jié)后形成空洞。 共晶焊時(shí)形成的空洞會(huì)降低器件的可靠性,擴(kuò)大IC斷裂的可能,并會(huì)增加器件的工作溫度、削弱管芯的粘貼能力。共晶后焊接層留下的空洞會(huì)影響接地效果及其它電氣性能。 消除空洞的主要方法有:
(1)共晶焊前清潔器件與焊料表面,去除雜質(zhì);
(2)共晶時(shí)在器件上放置加壓裝置,直接施加正壓;
(3)在真空環(huán)境下共晶。
實(shí)現(xiàn)多個(gè)芯片一次共晶
存進(jìn)行多芯片組件共晶時(shí),由于芯片的尺寸越來(lái)越小,數(shù)量越來(lái)越多,就必須采用特制的夾具來(lái)完成。這類(lèi)夾具不但具有固定芯片和焊料位置的功能,本身還要具有易操作、耐高溫不變形的特性。由于有些芯片的尺寸只有0.5 mm2甚至更小,不易定位,人工放置不便,所以共晶爐一般焊接1mm2以上的芯片;在共晶時(shí)由于有氣流變化,為防止芯片移動(dòng),用夾具定位是必需的。
夾具除對(duì)加工精度的要求外,還須耐受高溫且不變形,物理化學(xué)性質(zhì)不會(huì)改變、或說(shuō)其變化不會(huì)給共晶帶來(lái)不利影響、甚至有助于共晶:制造夾具的材料還必須易于加工,如果加工很困難,不利于功能實(shí)現(xiàn)。另外,易于使用也是著要重考慮的方面。石墨基本附合以上要求,共晶爐的夾具一般選用的就是高純石墨,它具有以下特點(diǎn):
(1)高溫變形小,對(duì)器件影響較??;
(2)導(dǎo)熱性好,有利于熱量傳播,使溫度均勻性好;
(3)化學(xué)穩(wěn)定好,長(zhǎng)期使用不變質(zhì);
(4)可塑性好,容易加工。
在一個(gè)氧化環(huán)境中,石墨中的碳形成CO和CO2,背"擦干"氧氣的優(yōu)點(diǎn)。石墨是各向同性材料,晶粒在所有方向上均勻、密集分布,受熱均勻。焊接元件被固定在石墨上,熱量直接傳導(dǎo),加熱均勻,焊接面平整。
2.2 基板與管殼的焊接
與芯片和基板的焊接工藝相似,基板與管殼的焊接也是共晶焊很好的應(yīng)用領(lǐng)域。在這一工藝中要注意空洞率要符合國(guó)軍標(biāo)GJB548-96A的要求,軍用產(chǎn)品控制在25%以下。由于基板一般比芯片尺寸大,且材質(zhì)較厚、硬些,對(duì)位置精度要求低,所以用共晶爐能更好地焊接。
2.3 封帽工藝
器件封帽也是共晶爐的用途之一。通常器件的外殼是陶瓷或可伐等材料外鍍金鎳而制成的。陶瓷封裝"在實(shí)際應(yīng)用中由于它容易裝配、容易實(shí)現(xiàn)內(nèi)部連接和成本低而成為最優(yōu)封裝介質(zhì)。陶瓷能經(jīng)受住苛刻的外部環(huán)境,高溫、機(jī)械沖擊和振動(dòng),它是一個(gè)剛硬的材料,并且有一個(gè)接近硅材料的熱膨脹系數(shù)值。這類(lèi)器件的封裝可以采用共晶焊的方法,陶瓷腔體上部有一個(gè)密封環(huán),用來(lái)與蓋板進(jìn)行共晶焊接,以獲得一個(gè)氣密、真空封焊。金層一般需要1.5m,但是由于工藝處理及高溫烘烤,腔體和密封環(huán)都需電鍍2.5μm的金,過(guò)多的金用來(lái)保護(hù)鎳
的遷移。鍍金可伐蓋板可被用來(lái)作為氣密性封焊陶瓷管殼的材料,在共晶前一般要進(jìn)行真空烘烤。 共晶爐還可應(yīng)用于芯片電鍍凸點(diǎn)再流成球、共晶凸點(diǎn)焊接、光纖封裝等工藝。除混合電路、電子封裝外,LED行業(yè)也是共晶爐應(yīng)用領(lǐng)域。
3 共晶爐與其它共晶設(shè)備的比較
除共晶爐外,實(shí)現(xiàn)共晶焊接的設(shè)備還有:帶有吸嘴和鑷子的共晶機(jī)、紅外再流焊爐、箱式爐等。使用這類(lèi)設(shè)備共晶時(shí)存在以下問(wèn)題:
(1)在大氣環(huán)境下焊接,共晶時(shí)容易產(chǎn)生空洞;
(2)使用箱式爐和紅外再流焊爐進(jìn)行共晶需要使用助焊劑,會(huì)產(chǎn)生助焊劑流動(dòng)污染,增加清洗工藝,若清洗不徹底導(dǎo)致電路長(zhǎng)期可靠性指標(biāo)降低;
(3)鑷子共晶機(jī)對(duì)操作者要求高,許多工藝參數(shù)不可控,不能任意設(shè)置溫度曲線,在進(jìn)行多芯片共晶時(shí),芯片重復(fù)受熱,焊料多次融化易使焊接面氧化,芯片移位,焊區(qū)擴(kuò)散面不規(guī)則,嚴(yán)重影響芯片的壽命和性能。
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