AMB氮化鋁陶瓷基板
吳懿平博士
華中科技大學(xué)連接與電子封裝中心教授/博導(dǎo) 廣州先藝電子科技有限公司技術(shù)總監(jiān)
【摘要】本人曾以《IGBT封裝結(jié)構(gòu)與可靠性》和《AgCuTi活性法陶瓷-金屬封接技術(shù)》兩篇專稿,向讀者介紹了IGBT的基本結(jié)構(gòu)、發(fā)展歷程、封裝技術(shù)、封裝工藝和可靠性研究;陶瓷-金屬的封接技術(shù)及其采用活性焊料(AMB)對陶瓷與金屬進行封接的工藝。本文則專稿向讀者介紹IGBT功率器件用的AMB氮化鋁高導(dǎo)熱基板技術(shù)。AMB氮化鋁陶瓷基板是迄今為止最具競爭優(yōu)勢的高壓功率器件封裝基板,發(fā)展勢頭非常好。AMB陶瓷基板具有獨特的耐高低溫沖擊失效能力、優(yōu)異的耐高壓性能,良好的導(dǎo)熱性,極高的可靠性和魯棒性,已成為新一代半導(dǎo)體和新型大功率電力電子器件的首選封裝材料。
【關(guān)鍵詞】AMB陶瓷基板IGBT、AgCuTi焊料、活性法封接、金屬-陶瓷封接、高導(dǎo)熱陶瓷基板
引言
功率半導(dǎo)體器件是實現(xiàn)電能變換和控制的關(guān)鍵,廣泛應(yīng)用于電網(wǎng)的發(fā)電端、傳輸端和用電端。從應(yīng)用領(lǐng)域占比來看,汽車是全球功率半導(dǎo)體最為主要的市場,其次是工業(yè)與消費電子領(lǐng)域。絕緣柵雙極型晶體管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)是一種新型功率半導(dǎo)體器件。與微電子技術(shù)中芯片技術(shù)(CPU)一樣,IGBT芯片技術(shù)是電力電子行業(yè)中的“心臟”和“大腦”,能控制并提供大功率的電力設(shè)備電能變換,有效提升設(shè)備的能源利用效率、自動化和智能化水平。由于其原理上集合了高頻、高壓、大電流三大技術(shù)優(yōu)勢,被公認為是電力電子技術(shù)第三次革命最具代表性的產(chǎn)品。
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由IGBT芯片組成的IGBT器件、模塊、組件以及系統(tǒng)裝置廣泛應(yīng)用于空調(diào)、洗衣機等家用電器,以及軌道交通、智能電網(wǎng)、航空航天、船舶驅(qū)動、新能源、電動汽車等高端產(chǎn)業(yè),特別是在涉及國家經(jīng)濟安全、國防安全等戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,高功率等級的IGBT尤為關(guān)鍵。依據(jù)IGBT的斷態(tài)電壓電壓分布來看,消費電子領(lǐng)域的主要應(yīng)用的IGBT產(chǎn)品為600V以下;600V以上的多用于工業(yè)控制、電子電子、智能電網(wǎng)、軌道交通等領(lǐng)域。其中主流的太陽能逆變器需要600/650V和1200V低損耗的IGBT;動車組主要應(yīng)用的IGBT模塊為3300V和6500V,軌道交通所使用的IGBT電壓在1700-6500V之間;智能電網(wǎng)使用的IGBT通常為3300V。其應(yīng)用分布如圖1所示。
圖1 IGBT應(yīng)用領(lǐng)域分布圖
在中低電壓領(lǐng)域,IGBT是新能源汽車電機驅(qū)動系統(tǒng)的核心元件,約占電機驅(qū)動系統(tǒng)成本的一半。而電機驅(qū)動系統(tǒng)占整車成本的15-20%,也就是說IGBT占整車成本的7-10%。IGBT在新能源車中是除電池之外成本第二高的元件,同時也決定了新能源車的整車能源效率。此外新能源車主要配件和外設(shè),如車載空調(diào)控制系統(tǒng)和新能源車充電樁中也需要用大量到IGBT模組。
從20世紀80年代至今,IGBT芯片制造技術(shù)經(jīng)歷了6代升級,從平面穿通型(PT)、到溝槽型電場-截止型(FS-Trench),芯片面積、工藝線寬、通態(tài)飽和壓降、關(guān)斷時間、功率損耗等各項指標經(jīng)歷了不斷的優(yōu)化,斷態(tài)電壓也從600V提高到6500V以上。第7代IGBT由三菱電機在2012年推出,IGBT更新一代的SiC技術(shù)也已經(jīng)在面市,三菱、Fuji、Rohm等都有能力制造出SiC功率芯片元件。
除了功率芯片技術(shù)外,封裝基板就成為IGBT模塊最為重要的組成部件了。高端的IGBT模塊對基板要求是:具有高導(dǎo)熱、高電絕緣、高機械強度、低膨脹等特性;又兼具無氧銅的高導(dǎo)電性、大的載流量;還要求容易形成電路圖案和優(yōu)異的焊接性能。
活性金屬釬焊(Active Metal Bonding,AMB)陶瓷覆銅基板以其優(yōu)異的性能而成為大功率電力電子器件的首選封裝材料。由于其在軍用功率電子和車輛電子等領(lǐng)域的特殊地位,掌握了核心技術(shù)的日本、德國等少數(shù)發(fā)達國家對我國進行了嚴格的技術(shù)封鎖,該技術(shù)已被列入《中國制造2025》的重大攻關(guān)項目。
可以認為:高溫?zé)Y(jié)金屬粉末法進行氧化物陶瓷-金屬封接是二十世紀國內(nèi)外高度重視和大力發(fā)展的高新技術(shù)。如今活性焊料實現(xiàn)非氧化物陶瓷-金屬接合(AMB),進而實現(xiàn)陶瓷表面金屬化、圖案化的電路基板,則是二十一世紀國際上高度重視和大力發(fā)展的高新技術(shù)。
1 陶瓷電路基板
1.1 幾種陶瓷材料的比較
Al2O3:氧化鋁基板是電子工業(yè)中最常用的基板材料。相對于大多數(shù)其他氧化物陶瓷,氧化鋁陶瓷的強度及化學(xué)穩(wěn)定性高,且原料來源豐富,價格便宜,適用于各種各樣的制造技術(shù)以及不同的形狀要求。
BeO:具有比金屬鋁還高的熱導(dǎo)率,應(yīng)用于需要高熱導(dǎo)的場合,但溫度超過300°C后迅速降低,還因其毒性,大大限制了BeO陶瓷的應(yīng)用。
Si3N4:氮化硅陶瓷基板導(dǎo)熱率75-80W/(m·K),導(dǎo)熱確實比不上氮化鋁陶瓷基板,但是氮化硅陶瓷基板彎曲強度是氮化鋁陶瓷基板的2-3倍,可以提高氮化硅陶瓷覆銅板強度和抗沖擊能力,焊接更厚的無氧銅而不會產(chǎn)生瓷裂現(xiàn)象,提高了基板的可靠性。
AlN:AlN有幾個非常重要的性能優(yōu)點:無毒;高的絕緣性能和高擊穿場強(1.4×107V/cm);低介電常數(shù)(~8.8);非常高的熱導(dǎo)率(同導(dǎo)熱良好的鋁相當,理論熱導(dǎo)率280W/m/K);有與Si相匹配的膨脹系數(shù)(293K-773K,4.8×10-6K-1)。只是AlN陶瓷材料本身的機械強度稍差;相對于Al2O3,AlN價格相對偏高。但性價比來講,AlN還是高出許多,因為Al2O3(96%)的導(dǎo)熱率只有29W/M*K(25°C),而AlN熱導(dǎo)率高達180W/M*K(25°C)。因此,對于正在興起和快速發(fā)展的物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、5G、電力電子、軌道交通、新能源汽車等行業(yè)所需要的大功率電子器件,特別是大功率IGBT模塊,具有高導(dǎo)熱性能、高可靠性的氮化鋁陶瓷基板必將成為首選材料。
1.2 幾種陶瓷電路基板工藝
陶瓷電路基板(簡稱“陶瓷基板”)種類共有HTCC、LTCC、DBC、DPC、AMB五種。其中DBC與DPC為國內(nèi)近幾年才開發(fā)成熟、且能量產(chǎn)化的專業(yè)技術(shù)。表1列出了DBC陶瓷基板和AMB陶瓷基板的性能特點。
表1 不同工藝陶瓷基板的性能對比
基板類型 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 價格 | 熱阻值 | 熱脹系數(shù) | 基板強度 | 載流量 | 可靠性 |
Al2O3 DBC | 家用電器、電動汽車、電力驅(qū)動、UPS | 低 | 高 | 大 | 低 | 低 | 低 |
AlN DBC | 航空航天、軍事電子、醫(yī)療、汽車、動車、電網(wǎng) | 高 | 中 | 中 | 中 | 高 | 中 |
Si3N4 DBC | 航空航天、軍事電子、醫(yī)療、混合動力汽車 | 高 | 中 | 小 | 高 | 中 | 中 |
AlN DPC | 高密度、高導(dǎo)熱封裝用陶瓷基板 | 高 | 中 | 中 | 的 | 低 | 中 |
Al2O3 AMB | 家用電器、電動汽車、電力驅(qū)動、UPS | 低 | 高 | 大 | 低 | 中 | 高 |
Si3N4 AMB | 航空航天、軍事電子、醫(yī)療、汽車、輸變電網(wǎng) | 高 | 中 | 小 | 高 | 高 | 高 |
AlN AMB | 航空航天、軍事電子、醫(yī)療、汽車、動車、電網(wǎng) | 高 | 低 | 中 | 中 | 高 | 高 |
HTCC基板:高溫共燒(HTCC)多層陶瓷基板,屬于較早起發(fā)展的技術(shù),但由于燒結(jié)溫度較高使其電極材料的選擇受限,且制作成本相對高昂,這些因素促使了低溫陶瓷共燒(LTCC)的發(fā)展。
LTCC基板:低溫共燒(LTCC)多層陶瓷基板雖然將共燒溫度降至約850°C,但缺點是尺寸精確度、產(chǎn)品強度不易控制。
DBC基板:Al2O3陶瓷的DBC基板是利用高溫加熱將Al2O3與Cu板結(jié)合,其技術(shù)瓶頸在于不易解決Al2O3與銅交界面之間的微氣孔問題,這使得該產(chǎn)品的量產(chǎn)能力與良率受到較大的挑戰(zhàn),直接影響覆銅基板的導(dǎo)熱性能和可靠性能,特別是耐高低溫沖擊性能。AlN陶瓷的DBC覆銅基板則是分別在無氧銅片和AlN基片上進行預(yù)氧化,從而形成相應(yīng)的Cu2O和Al2O3氧化層,然后通過高溫下的化學(xué)反應(yīng)形成封接良好的界面,制備出AlN陶瓷直接敷銅基板。AlN陶瓷的DBC基板最脆弱的部分是AlN陶瓷基片與其表面氧化層結(jié)合的地方,此斷面的主要物相是Al2O3和AlN。AlN陶瓷直接覆銅基板的結(jié)合強度隨著銅片氧化層厚度的增加而降低,表明預(yù)氧化層厚度是影響覆銅基板結(jié)合強度的關(guān)鍵因素。
DPC基板:DPC基板是將Cu直接沉積于Al2O3基板或其他陶瓷基板上的陶瓷電路基板。其工藝結(jié)合了材料制備技術(shù)與薄膜工藝技術(shù)。DPC基板產(chǎn)品為近年最普遍使用的陶瓷散熱基板。DPC基板的關(guān)鍵技術(shù)在于如何在陶瓷表面實現(xiàn)金屬化種子層,進而通過濕法工藝(或其他工藝)增厚金屬電路層。受限于工藝特性,其電路層的剝離強度和可靠性(耐高低溫沖擊性能)不理想,只能應(yīng)用于低功率的電子器件。但是其更加有優(yōu)勢的是:采用精細化的薄膜工藝,使得這種方法可以在陶瓷基片上獲得高密度的金屬化電路圖案,加上陶瓷基底的優(yōu)異性能(如AlN的優(yōu)異性能),DPC陶瓷基板常用作高密度集成電路的基板。
2 AlN陶瓷流延片
2.1 氮化鋁粉體
氮化鋁材料呈灰白色,屬于六方晶系纖鋅礦型共價鍵化合物。該結(jié)構(gòu)決定了AlN天然具有優(yōu)良的熱學(xué)、電學(xué)和力學(xué)性能。合成優(yōu)良的粉體是制備高導(dǎo)熱陶瓷片的重要前提。AlN粉末原料的粒度和純度對AlN陶瓷的性能起決定性作用,特別是氧含量對熱導(dǎo)率影響極大。所以要獲得高熱導(dǎo)率、高致密度、性能優(yōu)良的AlN陶瓷,必須首先制備出高純度、細粒度、窄粒度分布、性能穩(wěn)定的AlN粉末。
高導(dǎo)熱的AlN陶瓷片對氮化鋁粉體的要求是:高純度、粒度小且均勻、比表面積大、碳含量低、氧含量低、雜質(zhì)金屬極低。
目前,AlN粉末的合成方法主要有以下幾種:鋁粉直接氮化法、碳熱還原法、氣相反應(yīng)法、裂解法、等離子體法、電弧熔煉法等。前兩種方法已經(jīng)應(yīng)用于工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn),其中鋁粉直接氮化法為強放熱反應(yīng),反應(yīng)不易控制,反應(yīng)過程中放出的大量熱易使鋁形成融塊,造成反應(yīng)不完全,難以制備高純度、細粒度的產(chǎn)品。相比較而言,碳熱還原法制備的AlN粉末純度高、性能穩(wěn)定、粉末粒度細小均勻、成形和燒結(jié)性能良好。而在制備AlN前驅(qū)體時,溶膠-凝膠法又以成分易分布均勻、顆粒細而優(yōu)于固相混合法。
一種基于溶膠-凝膠的碳熱還原法制備AlN粉末的工藝介紹如下:
1. 制備AlN前驅(qū)體:將異丙醇鋁、蔗糖、聚乙二醇等均勻混合在一起,其中異丙醇鋁與有機碳源蔗糖的摩爾比為3,聚乙二醇的加入量為總量的0.3%。加入異丙醇/乙醇溶解,加醋酸去離子水溶液,以獲得氫氧化鋁溶膠體。升高溫度蒸發(fā)掉部分的水分和溶劑,得到凝膠體。將凝膠體進行冷凍干燥,形成AlN前驅(qū)體干凝膠。
2. 制備含碳的AlN粉末:將AlN前驅(qū)體干凝膠放入密閉的惰性氣氛爐中,使干凝膠中的有機物在無氧存在的惰性氣氛環(huán)境中逐漸脫水并炭化,與氫氧化鋁分解生成的氧化鋁形成混合均勻且疏松多孔的物質(zhì)。通過控制氮氣流速及不斷升溫,最終在約1500°C下氮化得到含碳的AlN粉末。
3. 炭熱還原AlN粉末:將含碳的AlN粉末放置于脫碳爐中,在800oC的還原氣氛下脫碳,即可得到85%粒徑分布在0.65-1.5μm之間的高純AlN粉體(氧量低于1%)。上述方法可在較低溫下制得純度高,含氧量低的亞微米級AlN粉體。
2.2 燒結(jié)助劑
AlN是一種難燒結(jié)的陶瓷材料。由于AlN中鋁-氮鍵具有較高的共價鍵成分,所以導(dǎo)致了AlN較高的熔點、較小的自擴散系數(shù)和較低的燒結(jié)活性。與其他幾種高共價鍵材料氮化硼(BN)、碳化硼(BxC)、碳化硅(SiC)一樣,AlN粉體純度較高時,很難通過燒結(jié)達到完全致密,陶瓷晶粒中或晶界處均有氣孔存在,極大地限制了AlN陶瓷的應(yīng)用。
目前,AlN陶瓷致密化的手段基本可分為兩大類:添加燒結(jié)助劑和改進燒結(jié)工藝。
添加燒結(jié)助劑是一種常見且有效提高陶瓷材料致密度的方法。在AlN材料的致密化過程中,常將CaF2、Y2O3、CaO、Li2O、BaO、MgO、SrO、La2O3、HfO2和CeO2等堿土金屬、稀土金屬和堿金屬的化合物作為燒結(jié)助劑添加到AlN原料粉體中。一般而言,二元或多元燒結(jié)助劑往往可以獲得更好的燒結(jié)效果。
引入燒結(jié)體系的燒結(jié)助劑可與AlN粉體表面的Al2O3反應(yīng),形成低熔物,產(chǎn)生液相,用以潤濕與連接AlN顆粒。這些液相包圍AlN顆粒,在毛細管力的作用下發(fā)生顆粒重排和內(nèi)部氣孔排出,起到促進燒結(jié)并提高陶瓷致密度的作用;燒結(jié)助劑和氧雜質(zhì)發(fā)生反應(yīng),以化合物的形式在晶界析出,起到純化晶格的效果,從而提高AlN陶瓷的導(dǎo)熱性能。
助燒劑加入方式有兩種,一是直接添加,另一種是以可溶性硝酸鹽形式制成前驅(qū)體原位生產(chǎn)燒結(jié)助劑。
2.3 流延成型與燒結(jié)
近年來業(yè)界逐步開發(fā)了流延成型、注凝成型、注射成型等工藝。由于電路基板的陶瓷基材大都為薄片狀,因此基本都采用流延成型方式來生產(chǎn)陶瓷生胚料。流延法分為有機和無機體系,有機流延體系具有溶劑選擇范圍廣、干燥時間短、防止粉體水化等特點,但常用的醇、酮及苯等有機溶劑具有一定毒性,生產(chǎn)受到一定限制。目前行業(yè)內(nèi)主要采用水基流延成型法。
水基流延體系是以水為溶劑,具有無污染、綠色環(huán)保、不燃以及成本低等優(yōu)點,適用于AlN陶瓷的綠色、低成本制造。但是AlN粉體易與水發(fā)生水解反應(yīng),從而在AlN陶瓷粉體表面引入額外的氧元素,經(jīng)高溫?zé)Y(jié)后會增大AlN陶瓷晶格氧含量,導(dǎo)致AlN陶瓷熱導(dǎo)率的急劇降低,因此,通常需要對AlN陶瓷粉體進行抗水解處理,以滿足高導(dǎo)熱AlN陶瓷的制備要求。
利用磷酸對AlN粉末進行酸洗處理,在其表面形成一層難溶于水的磷酸鹽保護層,可以有效地抑制AlN與的水反應(yīng),從而提高AlN抗水解能力。以一種中性低分子量聚丙烯酸酯(DP270)和聚丙烯酸銨(PAA-NH4)為分散劑可以使AlN粉末在水中的等電點向pH小的方向移動,并增大其Zeta電位的絕對值,有利于提高AlN漿料的穩(wěn)定性與均勻性。以聚乙烯醇(PVA)為粘結(jié)劑、甘油為增塑劑,得到高固含量的水基流延漿料,通過流延成型方法可得到AlN坯片,在1850oC燒結(jié)后,可制得熱導(dǎo)率為263W/m/K的AlN陶瓷。
為防止氮化鋁陶瓷的氧化,必須在無氧環(huán)境下進行燒結(jié)。常用的燒結(jié)方式有:真空燒結(jié)、保護氣氛燒結(jié)。例如,將上述溶膠-凝膠碳熱還原法制得的AlN超細粉體與CaF-Y2O3二元燒結(jié)助劑混合后經(jīng)流延成型為片狀后,在1700-1800oC的高純氮氣氛保護爐中燒結(jié)2h而制得AlN陶瓷板料。
AlN陶瓷的理論熱導(dǎo)率可達320W/(m·K),其商用產(chǎn)品熱導(dǎo)率一般為170-260W/(m·K)。25-200°C溫度范圍內(nèi)的熱膨脹系數(shù)為4<span style="letter-spacing: